這里所說的電鍍銀上鍍慢是指兩個表象：一是鍍層亮的慢。二是低電流區(qū)鍍層不光亮，或有漏鍍表象。電鍍廠提示：造成這種上鍍慢的緣由首要有下述幾種：

1、電流過小。尤其是鍍那條形狀較復(fù)雜的超大件，電流太小，使凹洼處電流分布太弱。

2、光亮劑缺乏。補加光亮劑即可解決。

 3、鍍液渙散能力差。首要是含量偏低所造成。經(jīng)化驗后補加。

4、鉛雜質(zhì)太多。常表現(xiàn)在低電流區(qū)灰暗色，鍍層顯薄。

處理方法：1、補充金屬鹽，降低NaCN的含量；2、加入使碳酸鹽沉淀或冷至0℃左右，讓它自然結(jié)晶析出。 但在體系中的分出電位卻比鐵正。所以鐵首要在高電流區(qū)分出。當(dāng)鍍液中鐵離子含量高時，就會在工件的邊角處富集。鍍層中鐵的含量高，應(yīng)力大，鍍 層易開裂。 鍍液中鐵雜質(zhì)多時有一明顯特征：鍍液污濁。或呈紅色污濁，或呈白色污濁。加處理即可消除鐵的影響。

電鍍銀廠家告訴您電鍍是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝，可以起到防止腐蝕，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性及增進美觀等作用。氫脆是一種由于氫滲入金屬內(nèi)部導(dǎo)致?lián)p傷，從而使金屬材料在低于材料屈服強度的靜應(yīng)力作用下發(fā)生的延遲斷裂現(xiàn)象。氫脆在工程上是一種比較普遍的現(xiàn)象，尤其是在電鍍加工生產(chǎn)過程中容易導(dǎo)致金屬材料產(chǎn)生氫脆，電鍍工藝過程中的氫脆主要發(fā)生在酸洗、電鍍等工序中。因此許多制件在進行電鍍加工后，都會進行去氫處理，避免氫脆而導(dǎo)致的危害。

  下面電鍍銀廠來介紹一下除氫的方法。

1、根據(jù)工件要求提出除氫方法例如鍍硬鉻，電鍍廠在鍍硬鉻時由于電流效率過低，只有百分之13~百分之18，氫容易擴散到鍍層和基體金屬的晶格中，滲氫較為嚴(yán)重，從而引起疲勞強度的降低，影響動、靜負載強度，故在設(shè)計中應(yīng)提出鍍鉻后除氫處理的要求。經(jīng)除氫處理之后可去除滲入鍍層和基體中百分之60~百分之70的氫，從而大大減輕了脆性而不會降低其硬度。

2、除氫溫度不能太高例如，鋁合金電鍍后，除氫是采用加熱的方法將氫從金屬中趕走的。除氫的功效與除氫的溫度、保溫時間的長短有關(guān)。除氫的溫度越高，時間越長，除氫就越。但不能超過250攝氏度。因為在這個溫度下電鍍層的結(jié)晶組織會變形、發(fā)脆、抗蝕性能下降。